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LiNbO3晶體中引入π位相差實(shí)現(xiàn)選擇性擦除

時(shí)間:2023-04-29 17:07:46 數(shù)理化學(xué)論文 我要投稿
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LiNbO3晶體中引入π位相差實(shí)現(xiàn)選擇性擦除

在晶體中進(jìn)行大容量多重體存儲(chǔ),需要對(duì)晶體中記錄數(shù)據(jù)進(jìn)行修改,這就使得選擇性擦除必不可少.介紹了鈮酸鋰晶體中實(shí)現(xiàn)選擇性擦除的原理,著重介紹了在物光和參考光中引入π位相差的幾種方法,通過引入π位相差來(lái)記錄互補(bǔ)全息圖,利用全息圖及其他的互補(bǔ)全息圖的非相干疊加來(lái)消除原全息圖對(duì)晶體折射率的調(diào)制,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)未定影全息圖的選擇性擦除.實(shí)現(xiàn)了在晶體中某一數(shù)據(jù)頁(yè)面內(nèi)部分?jǐn)?shù)據(jù)的擦除,并從理論上對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行了分析.并給出了在某一數(shù)據(jù)頁(yè)面內(nèi)進(jìn)行部分擦除的實(shí)驗(yàn)結(jié)果.

作 者: 周元林 謝敬輝 孫萍 張穎 徐玉恒 徐悟生   作者單位: 周元林,謝敬輝,孫萍,張穎(北京理工大學(xué)光電工程系,北京,100081)

徐玉恒,徐悟生(哈爾濱工業(yè)大學(xué)應(yīng)用化學(xué)系,黑龍江,哈爾濱,150001) 

刊 名: 中國(guó)激光  ISTIC EI PKU 英文刊名: CHINESE JOURNAL OF LASERS  年,卷(期): 2003 30(8)  分類號(hào): O438.1  關(guān)鍵詞: 信息光學(xué)   體全息存儲(chǔ)   選擇性擦除   LiNbO3晶體  

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