全息光柵光刻膠掩模槽形演化及其規(guī)律研究

為了控制全息光柵光刻膠掩模槽形,運用曝光模型和顯影模型模擬了掩模的槽形形成過程和變化規(guī)律.實驗對比了不同曝光量,不同顯影濃度,不同空頻條件下的掩模槽形,特別是占寬比(光柵齒寬度與光柵周期的比)的情況.實驗結果表明,實際槽形與模擬槽形很接近.模擬和實驗均發(fā)現(xiàn),在大曝光量、高濃度顯影、高空頻的光柵條件下所得槽形占寬比較小,槽深主要由原始膠厚決定.

作 者： 陳剛 吳建宏 劉全 CHEN Gang WU Jiang-hong LIU Quan   作者單位： 陳剛,CHEN Gang(南京信息職業(yè)技術學院,微電子工程系,南京,210046)

吳建宏,劉全,WU Jiang-hong,LIU Quan(蘇州大學,信息光學工程研究所,江蘇,蘇州,215006) 

刊 名： 光學技術  ISTIC PKU 英文刊名： OPTICAL TECHNIQUE  年，卷(期)： 2008 34(1)  分類號： O436.1  關鍵詞： 衍射光柵   全息光柵掩模   槽形模擬   占寬比控制  

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