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磁控濺射技術(shù)制備ZnO透光薄膜
采用RF磁控濺射方法,在玻璃襯底上制備了擇優(yōu)取向的ZnO薄膜;通過臺階儀、X射線衍射技術(shù)、原子力顯微鏡和分光光度計分別測量了不同濺射功率條件下淀積的ZnO薄膜厚度(淀積速率)、結(jié)晶質(zhì)量、表面形貌與粗糙度、透光光譜,報道了該薄膜結(jié)晶質(zhì)量、薄膜粗糙度與其在可見光區(qū)透光率的關(guān)系.
作 者: 俞振南 姜樂 熊志華 鄭暢達(dá) 戴江南 江風(fēng)益 YU Zhen-nan JIANG Le XIONG Zhi-hua ZHENG Chang-da DAI Jiang-nan JIANG Feng-yi 作者單位: 南昌大學(xué),教育部發(fā)光材料與器件工程研究中心,江西,南昌,330031 刊 名: 南昌大學(xué)學(xué)報(理科版) ISTIC PKU 英文刊名: JOURNAL OF NANCHANG UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE) 年,卷(期): 2007 31(5) 分類號: O782+.9 關(guān)鍵詞: ZnO 磁控濺射 透光光譜 粗糙度 濺射功率【磁控濺射技術(shù)制備ZnO透光薄膜】相關(guān)文章:
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