自持金剛石厚膜上沉積生長ZnO薄膜及發(fā)光特性

采用磁控濺射在自持CVD金剛石厚膜的成核面上制備了ZnO薄膜,并實(shí)驗(yàn)研究了其生長特性和發(fā)光特性隨O2和Ar流量的變化.利用X射線衍射(XRD)、光致發(fā)光(PL)光譜、電子探針(EPMA)和霍爾測量對樣品進(jìn)行了檢測.結(jié)果表明,在O2/Ar比值約為1時(shí)沉積得到的ZnO薄膜取向較一致,呈現(xiàn)高阻的狀態(tài)并且發(fā)光性能最好.

作 者： 孫劍 白亦真 谷建峰 劉明 張慶瑜 姜辛 SUN Jian BAI Yi-zhen GU Jian-feng LIU Ming ZHANG Qing-yu JIANG Xin   作者單位： 孫劍,白亦真,劉明,張慶瑜,SUN Jian,BAI Yi-zhen,LIU Ming,ZHANG Qing-yu(大連理工大學(xué),三束材料改性國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,遼寧,大連,116023;大連理工大學(xué),物理與光電工程學(xué)院,遼寧,大連,116023)

谷建峰,姜辛,GU Jian-feng,JIANG Xin(大連理工大學(xué),三束材料改性國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,遼寧,大連,116023) 

刊 名： 發(fā)光學(xué)報(bào)  ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE  年，卷(期)： 2008 29(3)  分類號： O482.31  關(guān)鍵詞： 聲表面波濾波器   金剛石   ZnO薄膜   磁控濺射  

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