不同氧分壓下ZrO2薄膜特性研究

在不同的氧分壓下用電子束熱蒸發(fā)的方法生長了氧化鋯薄膜.通過掃描探針顯微鏡、分光光度計、X射線衍射、激光損傷閾值(LIDT)測量等,研究了沉積中氧分壓對ZrO2薄膜的微結(jié)構(gòu)、光學(xué)性質(zhì)、激光損傷閾值等的影響.

作 者： 張東平 邵建達 邵淑英 齊紅基 高衛(wèi)東 范正修   作者單位： 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所薄膜中心,上海,201800  刊 名： 中國激光  ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS  年，卷(期)： 2004 31(z1)  分類號： O484.5  關(guān)鍵詞： 光學(xué)薄膜材料   氧分壓   表面粗糙度   激光損傷閾值  

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